雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量
更新日期：2026-04-15
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廠商性質：經銷商
生產地址：日本
簡要描述：
美國 Excel Precision 1001F 雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量，采用塞曼效應穩(wěn)頻技術，實現(xiàn) 0.3nm 納米級位移測量，適配半導體、精密機床等場景的高精度標定。
產品概述
本產品為美國 Excel Precision 1001F 雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量，是工業(yè)級納米精度位移測量的核心設備，專為半導體制造、精密機床、FPD 面板設備的標定與檢測設計，全球累計裝機量超 5000 臺，可直接兼容 HP 5501B 等經典干涉儀系統(tǒng)，實現(xiàn)低成本升級改造。
核心性能與參數(shù)
測量原理：塞曼效應雙頻 He-Ne 激光干涉法，抗環(huán)境干擾能力強，適合工業(yè)現(xiàn)場長期連續(xù)測量
激光波長：632.8nm（標準氦氖激光），最小分辨率 0.3nm，測量精度 ±0.05ppm
輸出功率：0.5mW，頻率穩(wěn)定性優(yōu)異，長期使用性能穩(wěn)定
測量速度：最高 1.0m/s，支持多軸同步測量，適配高速運動平臺
工作環(huán)境：溫度 15~35℃，濕度 < 80% RH（無結露），適配無塵室與車間環(huán)境
產品特點
雙頻穩(wěn)頻技術，抗振動、氣流干擾能力強，測量結果穩(wěn)定可靠
納米級超高精度，滿足半導體、超精密加工的亞微米級位移測量需求
高兼容性設計，可直接替換 HP 5501B 等經典系統(tǒng)，降低改造成本
寬電壓輸入，適配全球工業(yè)場景，連續(xù)運行穩(wěn)定性強
非標準現(xiàn)貨，可根據客戶需求定制單軸 / 多軸、角度 / 直線 / 平面度等全功能測量系統(tǒng)
美國 Excel Precision 1001F 雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量 適用場景
半導體 / 液晶面板制造：光刻機、檢測設備的位移標定，晶圓 / 玻璃基板產線精度校準
精密機械 / 機床領域：超精密機床、坐標測量機的精度檢測與補償
科研 / 實驗室領域：精密光學實驗、材料力學測試的位移測量
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