脈沖型高頻高壓等離子電源

更新日期：2026-04-30

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廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商

生產(chǎn)地址：日本

簡(jiǎn)要描述：

PHF-2K-P 脈沖型高頻高壓等離子電源，專(zhuān)為等離子體發(fā)生設(shè)計(jì)，可輸出 0~±15kV 高壓脈沖，頻率 1~30kHz 可調(diào)，適配常壓 / 真空等離子工藝場(chǎng)景。

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產(chǎn)品介紹

PHF-2K-P 脈沖型高頻高壓等離子電源，是專(zhuān)為等離子體發(fā)生開(kāi)發(fā)的工業(yè)級(jí)電源設(shè)備，可輸出 0~±15kV 的高壓脈沖信號(hào)，支持 1kHz~30kHz 頻率連續(xù)可調(diào)，適配大氣壓與真空環(huán)境下的等離子體放電工藝，為表面處理、薄膜沉積、廢氣處理等場(chǎng)景提供可靠的能量供給。

設(shè)備核心采用脈沖型高頻高壓設(shè)計(jì)，輸出波形為上升 / 下降沿極快的脈沖波，能高效激發(fā)等離子體，同時(shí)降低平均功率，減少電極與工件的熱損傷，適合塑料、金屬、半導(dǎo)體等多種材料的溫度敏感型處理工藝。輸出電壓范圍為 0~±15kV，可提供等離子體起弧與維持所需的高電場(chǎng)強(qiáng)度，適配空氣、惰性氣體、反應(yīng)性氣體等多種介質(zhì)的放電需求；振蕩頻率在 1kHz~30kHz 范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)，用戶(hù)可根據(jù)工藝需求優(yōu)化等離子體密度與能量分布，實(shí)現(xiàn)對(duì)表面處理效果的精準(zhǔn)控制。

設(shè)備采用分體式機(jī)箱設(shè)計(jì)，主機(jī)與高壓輸出箱分離，高壓部分隔離處理，提升設(shè)備運(yùn)行安全性；主機(jī)配備數(shù)顯儀表，可直觀(guān)監(jiān)控電壓、頻率等關(guān)鍵參數(shù)，便于工藝調(diào)試與運(yùn)行監(jiān)控。設(shè)備專(zhuān)為大氣壓等離子體發(fā)生開(kāi)發(fā)，也可在真空環(huán)境中穩(wěn)定驅(qū)動(dòng)等離子體放電，兼顧常壓 / 真空兩種工藝場(chǎng)景的使用需求，適配不同工業(yè)生產(chǎn)與科研實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景。

PHF-2K-P 脈沖型高頻高壓等離子電源 廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)場(chǎng)景：表面改性處理中可用于塑料、金屬材料的等離子清洗、活化、刻蝕，提升表面附著力；薄膜沉積工藝中可用于等離子體輔助氣相沉積，制備功能性涂層；環(huán)保領(lǐng)域可用于有機(jī)廢氣、工業(yè)尾氣的等離子體降解處理；也可用于高校 / 研究所的等離子體物理實(shí)驗(yàn)、放電特性研究，以及半導(dǎo)體、電子元件的等離子去膠、污染物去除等工業(yè)清洗場(chǎng)景。設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，為各類(lèi)等離子體工藝場(chǎng)景提供可靠的電源保障。同時(shí)提供技術(shù)支持與售后維護(hù)服務(wù)，幫助用戶(hù)解決安裝調(diào)試、工況適配、日常維護(hù)等問(wèn)題，確保設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。